文献
J-GLOBAL ID:200902000010885576
整理番号:90A0739763
Plasma etching of chrome masks using PBS resist.
著者 (2件):
BELL G
(BMP Plasmatechnologie GmbH, Oberhaching, DEU)
,
SPIERER H
(Siemens AG, Munich, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1264
ページ:
446-451
発行年:
1990年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)