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文献
J-GLOBAL ID:200902000023472823   整理番号:87A0140450

近赤外スペクトルでの光応答を増大させるための多層a-Si:H(F)/a-SiGex:H(F)膜の設計

Design of multiple layered a-Si:H(F)/a-SiGex:H(F) films for enhancement in photoresponse in the near-infrared spectrum.
著者 (6件):
SHIRAI H
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
TANABE A
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
ODA S
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
HANNA J
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
NAKAMURA T
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
SHIMIZU I
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)

資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)

巻: 41  号:ページ: 259-265  発行年: 1986年12月 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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