文献
J-GLOBAL ID:200902000023472823
整理番号:87A0140450
近赤外スペクトルでの光応答を増大させるための多層a-Si:H(F)/a-SiGex:H(F)膜の設計
Design of multiple layered a-Si:H(F)/a-SiGex:H(F) films for enhancement in photoresponse in the near-infrared spectrum.
著者 (6件):
SHIRAI H
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
,
TANABE A
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
,
ODA S
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
,
HANNA J
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
,
NAKAMURA T
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
,
SHIMIZU I
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama, JPN)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
41
号:
4
ページ:
259-265
発行年:
1986年12月
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)