文献
J-GLOBAL ID:200902000068530484
整理番号:91A0704220
酸化したケイ素上の金属薄膜界面欠陥のフラクトエミッションによる評価
Characterization of the interfacial failure of metal thin films on oxidized silicon using fracto-emission.
著者 (3件):
XIONG-SKIBA P
(Wesleyan Univ., Connecticut)
,
DOERING D L
(Wesleyan Univ., Connecticut)
,
SIEK K H
(Wesleyan Univ., Connecticut)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
9
号:
4
ページ:
2563-2565
発行年:
1991年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)