文献
J-GLOBAL ID:200902000169216098
整理番号:93A0161058
プラズマ生成反応種によるフォトレジストのエッチングの簡単なモデル
A simple model for the etching of photoresist with plasma-generated reactants.
著者 (2件):
KORETSKY M D
(Univ. California at Berkeley, California)
,
REIMER J A
(Univ. California at Berkeley, California)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
72
号:
11
ページ:
5081-5088
発行年:
1992年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)