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文献
J-GLOBAL ID：200902001853179653
整理番号：90A0922122
EC Ni-O薄膜の研究および新しい素子
Study on EC Ni-O thin film and a new device.
CHEN L
(Inst. Physics, Academia Sinica, Beijing, CHN)
,
SHENG C
(Inst. Physics, Academia Sinica, Beijing, CHN)
,
XUE R
(Inst. Physics, Academia Sinica, Beijing, CHN)
,
DONG M
(Henan Normal Univ., Henan, CHN)
,
CHEN Y
(Inst. Chemical Metallurgy, Academia Sinica, Beijing, CHN)
資料名：
Solid State Ionics
(Solid State Ionics)
巻： 40/41 号： Pt 1 ページ： 495-498 発行年： 1990年08月
JST資料番号： B0096B ISSN： 0167-2738 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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