文献
J-GLOBAL ID:200902001883966986
整理番号:92A0000482
(100)GaAs上のAlxGa1-xAs(x=0.2-0.7)分子線エピタキシャル成長におけるAs種(As4およびAs2)の比較
Comparison of As species (As4 and As2) in molecular beam epitaxial growth of AlxGa1-xAs (x=0.2-0.7) on (100) GaAs.
著者 (5件):
HAYAKAWA T
(Eastman Kodak (Japan) Ltd., Yokohama, JPN)
,
MORISHIMA M
(Eastman Kodak (Japan) Ltd., Yokohama, JPN)
,
NAGAI M
(Eastman Kodak (Japan) Ltd., Yokohama, JPN)
,
HORIE H
(Eastman Kodak (Japan) Ltd., Yokohama, JPN)
,
MATSUMOTO K
(Eastman Kodak (Japan) Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
59
号:
19
ページ:
2415-2417
発行年:
1991年11月04日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)