文献
J-GLOBAL ID:200902001908893091
整理番号:91A0072857
注入窒素を使用した効果的なエッチストップ障壁としてのBESOI材料の製造
Fabrication of BESOI-materials using implanted nitrogen as an effective etch stop barrier.
著者 (1件):
SOEDERBAERG A
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
資料名:
Proceedings. 1989 IEEE SOS/SOI Technology Conference
(Proceedings. 1989 IEEE SOS/SOI Technology Conference)
ページ:
64-65
発行年:
1989年
JST資料番号:
K19901039
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)