文献
J-GLOBAL ID:200902001929434488
整理番号:89A0003520
AlとSiの間の拡散障壁としてのWxN1-x合金
WxN1-x alloys as diffusion barriers between Al and Si.
著者 (5件):
SO F C T
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
KOLAWA E
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
ZHAO X-A
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
PAN E T-S
(California Inst. Technology, CA, USA)
,
NICOLET M-A
(California Inst. Technology, CA, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
64
号:
5
ページ:
2787-2789
発行年:
1988年09月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)