文献
J-GLOBAL ID:200902001965364160
整理番号:92A0022313
In situ wafer emissivity variation measurement in a rapid thermal processor.
著者 (3件):
DILHAC J-M
(LAAS, CNRS, Toulouse, FRA)
,
GANIBAL C
(LAAS, CNRS, Toulouse, FRA)
,
NOLHIER N
(LAAS, CNRS, Toulouse, FRA)
資料名:
Rapid Thermal and Integrated Processing
(Rapid Thermal and Integrated Processing)
ページ:
3-8
発行年:
1991年
JST資料番号:
K19910669
ISBN:
1-55899-118-2
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)