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J-GLOBAL ID：200902001968476783 整理番号：91A0441457

半導体加工用の温和なプレカーサ

Benign precursors for semiconductor processing.

著者 (3件)：

MITCHELL J W

(AT&T Bell Lab., New Jersey)

VALDES J L

(AT&T Bell Lab., New Jersey)

CADET G

(AT&T Bell Lab., New Jersey)

資料名：

AT&T Technical Journal (AT&T Technical Journal)

巻： 69 号： 6 ページ： 101-112 発行年： 1990年11月
JST資料番号： B0062A ISSN： 8576-2324 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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