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文献
J-GLOBAL ID：200902015503898496
整理番号：87A0077683
プラズマプロセスに関する高周波放電における空間依存励起率と電力デポジションのシミュレーション
Simulation of spatially dependent excitation rates and power deposition in RF discharges for plasma processing.
KUSHNER M J
(Mathematical Sciences Northwest, WA, USA)
,
ANDERSON H M
(Univ. New Mexico, NM, USA)
,
HARGIS P J
(Sandia National Lab., NM, USA)
資料名：
Plasma Synthesis and Etching of Electronic Materials
(Plasma Synthesis and Etching of Electronic Materials)
ページ： 201-213 発行年： 1985年
JST資料番号： K19860621 ISBN： 0-931837-03-0 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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