文献
J-GLOBAL ID:200902015521022255
整理番号:86A0421852
金属二けい化物-シリコン界面の理論的研究
Theoretical studies of metal disilicide-silicon interfaces.
著者 (3件):
XU Y N
(Fudan Univ., People’s Republic of China)
,
ZHANG K M
(Fudan Univ., People’s Republic of China)
,
XIE X D
(Fudan Univ., People’s Republic of China)
資料名:
Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics
(Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻:
33
号:
12 Pt 2
ページ:
8602-8606
発行年:
1986年06月15日
JST資料番号:
D0746A
ISSN:
1098-0121
CODEN:
PRBMDO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)