文献
J-GLOBAL ID:200902015650421662
整理番号:92A0219998
自己整合接触のための中程度のドーズのCoイオン注入による表面CoSi2層
Surface CoSi2 layers by moderate dose cobalt implantation for self-aligned contacts.
著者 (1件):
MASZARA W P
(Allied-Signal Aerospace Co., Maryland)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
71
号:
3
ページ:
1248-1252
発行年:
1992年02月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)