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文献
J-GLOBAL ID：200902015670878391
整理番号：87A0141574
C2F6-H2放電での重合膜の形成
Polymer film formation in C2F6-H2 discharges.
D’AGOSTINO R
(Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, Consiglio Nazionale delle Ricerche, Bari, ITA)
,
CRAMAROSSA F
(Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, Consiglio Nazionale delle Ricerche, Bari, ITA)
,
FRACASSI F
(Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, Consiglio Nazionale delle Ricerche, Bari, ITA)
,
DESIMONI E
(Univ. Bari, Bari, ITA)
,
SABBATINI L
(Univ. Bari, Bari, ITA)
,
ZAMBONIN P G
(Univ. Bari, Bari, ITA)
,
CAPORICCIO G
(Montefluos, Milan, ITA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 143 号： 2 ページ： 163-175 発行年： 1986年10月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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