文献
J-GLOBAL ID:200902015676569935
整理番号:89A0401111
イオン注入用高電流イオン源
High-current ion sources for ion implantation.
著者 (1件):
KELLER R
(Lawrence Berkeley Lab., CA, USA)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
40/41
号:
1
ページ:
518-521
発行年:
1989年04月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)