文献
J-GLOBAL ID:200902015697207766
整理番号:91A0069460
Si(100)上のGe超薄膜の小角X線反射研究
Low angle x-ray reflection study of ultrathin Ge films on (100)Si.
著者 (1件):
BARIBEAU J-M
(National Research Council Canada, Ottawa, CAN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
57
号:
17
ページ:
1748-1750
発行年:
1990年10月22日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)