文献
J-GLOBAL ID:200902015733449534
整理番号:86A0233346
SiF4,GeF4およびH2からrfまたはdcグロー放電法で製作した非晶質Si,Ge:H合金の輸送性質
Transport properties of α-Si, Ge:H alloys prepared from SiF4, GeF4 and H2 in r.f. or d.c. glow discharges.
著者 (8件):
KOLODZEY J
(Princeton Univ., New Jersey)
,
SLOBODIN D
(Princeton Univ., New Jersey)
,
ALJISHI S
(Princeton Univ., New Jersey)
,
QUINLAN S
(Princeton Univ., New Jersey)
,
SCHWARZ R
(Princeton Univ., New Jersey)
,
SHEN D S
(Princeton Univ., New Jersey)
,
FAUCHET P M
(Princeton Univ., New Jersey)
,
WAGNER S
(Princeton Univ., New Jersey)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
77/78
号:
Pt2
ページ:
897-900
発行年:
1985年12月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)