文献
J-GLOBAL ID:200902017626372351
整理番号:91A0861011
浅接合ボロン高濃度拡散層形成におけるモデルの評価
Evaluation of Boron diffusion during Shallow-Junction Formation.
著者 (2件):
佐藤久子
(日立 デバイス開セ)
,
石川勝彦
(日立 デバイス開セ)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
91
号:
246(VLD91 47-58)
ページ:
1-7
発行年:
1991年09月26日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)