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文献
J-GLOBAL ID:200902131020831170   整理番号:93A0696916

炭素イオン打込みCo薄膜における準安定炭化物の形成とフラクタル構造

Formation of metastable carbide and fractal structure in Co thin films by carbon ion implantation.
著者 (2件):
LIU B X
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
TAO K
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)

資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)

巻: 80/81  号: Pt 1  ページ: 332-335  発行年: 1993年06月 
JST資料番号: H0899A  ISSN: 0168-583X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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