文献
J-GLOBAL ID:200902131037053006
整理番号:99A0237790
深X線リソグラフィーにおける構造品質への現像液の温度とレジスト材料の影響
Influence of developer temperature and resist material on the structure quality in deep x-ray lithography.
著者 (3件):
PANTENBURG F J
(Forschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
ACHENBACH S
(Forschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
,
MOHR J
(Forschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
16
号:
6
ページ:
3547-3551
発行年:
1998年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)