文献
J-GLOBAL ID:200902165048609482
整理番号:02A0625616
O2クラスタイオン支援蒸着による光学薄膜形成
Optical Thin Film Formation with O2 Cluster Ion Assisted Deposition.
著者 (8件):
SHIRAI K
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
FUJIWARA Y
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
TAKAHASHI R
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
TOYODA N
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
MATSUI S
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
MITAMURA T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
TERASAWA M
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
YAMADA I
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
6B
ページ:
4291-4294
発行年:
2002年06月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)