文献
J-GLOBAL ID:200902165067240139
整理番号:94A0735726
Oscillating behavior of NO reduction reactions over rhodium studied on the atomic level.
著者 (3件):
VAN TOL M F H
(Leiden Univ., Leiden, NLD)
,
WOUDA P T
(Leiden Univ., Leiden, NLD)
,
NIEUWENHUYS B E
(Leiden Univ., Leiden, NLD)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
12
号:
4 Pt 2
ページ:
2176-2182
発行年:
1994年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)