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文献
J-GLOBAL ID：200902165113162768
整理番号：96A0169291
商用利用レジストの0.25μm構造のX線照射のためのプロセス制御 適応制御の可能性
Processing control for 0.25μm x-ray exposures of commercially available resists: The potential for adaptive control.
TAYLOR J W
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
GAMSKY C
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
RHYNER S
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
HOWES G
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
DENTINGER P
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
NELSON C
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
YANG C
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
REILLY M
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 13 号： 6 ページ： 3078-3081 発行年： 1995年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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