文献
J-GLOBAL ID:200902192566781350
整理番号:98A0169551
プラズマ損傷Siのフォトレフレクタンス分光法によるin-situ評価
In-situ Characterization of Plasma-damaged Si by Photoreflectance Spectroscopy.
著者 (5件):
和田秀夫
(大阪大 大学院)
,
江利口浩二
(松下電器産業)
,
藤本晶
(和歌山工高専)
,
金島岳
(大阪大 大学院)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
97
号:
446(SDM97 164-177)
ページ:
35-40
発行年:
1997年12月12日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)