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文献
J-GLOBAL ID:200902209487928400   整理番号:06A0553071

半導体技術を用いて作製した薄膜キャパシタの実装方法の検討

A Study on the Method to Embed the Thin Film Capacitor Fabricated by Semiconductor Technology
著者 (14件):
渡辺充広
(関東学院大 表面工研)
小岩一郎
(関東学院大 表面工研)
小岩一郎
(関東学院大 工)
本間英夫
(関東学院大 表面工研)
本間英夫
(関東学院大 工)
足利欣哉
(沖電気工業 シリコンソリューションカンパニー)
照井誠
(沖電気工業 シリコンマニュファクチャリングカンパニー)
白石靖
(沖電気工業 シリコンマニュファクチャリングカンパニー)
安在憲隆
(沖電気工業 シリコンマニュファクチャリングカンパニー)
大角卓史
(沖電気工業 シリコンマニュファクチャリングカンパニー)
逢坂哲彌
(早稲田大 理工)
熊谷智弥
(東京応化工業)
佐藤善美
(東京応化工業)
橋本晃
(関東学院大 工総研)

資料名:
エレクトロニクス実装学会誌  (Journal of Japan Institute of Electronics Packaging)

巻:号:ページ: 282-288  発行年: 2006年07月01日 
JST資料番号: S0579C  ISSN: 1343-9677  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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