文献
J-GLOBAL ID:200902212391528585
整理番号:05A0098828
サブ65nmノード世代用の小形コンタクトホールプロセスの解析的研究
Analytical study on small contact hole process for sub-65nm node generation
著者 (6件):
KIM H-W
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
,
YOON J-Y
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
,
HAH J-H
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
,
WOO S-G
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
,
CHO H-K
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
,
MOON J-T
(Samsung Electronics, Gyeonggi-Do, KOR)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
22
号:
6
ページ:
L38-L43
発行年:
2004年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)