文献
J-GLOBAL ID:200902212404768408
整理番号:09A0446083
現像後検査用の先端技術
Advanced technology for after-develop inspection
著者 (10件):
CHEN ZY
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
,
CHOU IC
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
,
YANG JH
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
,
CHEN Wallas
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
CHANG Josh
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
CHEN Henry
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
NG Melvin
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
WU Meng-Che
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
PERRY-SULLIVAN Cathy
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
LI Mingwei
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7140
号:
Pt.1
ページ:
71400Y.1-71400Y.6
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)