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文献
J-GLOBAL ID:200902212404768408   整理番号:09A0446083

現像後検査用の先端技術

Advanced technology for after-develop inspection
著者 (10件):
CHEN ZY
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
CHOU IC
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
YANG JH
(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Hsinchu, TWN)
CHEN Wallas
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
CHANG Josh
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
CHEN Henry
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
NG Melvin
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
WU Meng-Che
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
PERRY-SULLIVAN Cathy
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
LI Mingwei
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 7140  号: Pt.1  ページ: 71400Y.1-71400Y.6  発行年: 2008年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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