文献
J-GLOBAL ID:200902212507343294
整理番号:05A0084201
典型的な水平な長さ方向に沿ったMOCVDプロセスにおける基板の傾斜によるリターンフローの遅れた発生
Delayed onset of return flow by substrate inclination in model horizontal longitudinal MOCVD processes
著者 (4件):
KUO W S
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
WANG C Y
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
TUH J L
(Chin Min Inst. of Technol., Miaoli, TWN)
,
LIN T F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
274
号:
1/2
ページ:
265-280
発行年:
2005年01月15日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)