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文献
J-GLOBAL ID：200902218925659590
整理番号：06A0575308
Conductive-AFMによるゲート絶縁膜劣化現象のナノスケール評価
Nano-Scale Evaluations for Degradation Phenomena in Gate Insulators Using Conductive-AFM
財満鎭明
(名古屋大)
,
世古明義
(名古屋大)
,
渡辺行彦
(豊田中研)
,
坂下満男
(名古屋大)
,
酒井朗
(名古屋大)
,
小川正毅
(名古屋大)
資料名：
半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集
(Proceedings of the Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology)
巻： 70th ページ： 11-14 発行年： 2006年07月06日
JST資料番号： F0108B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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