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文献
J-GLOBAL ID：200902222361079609
整理番号：04A0474119
ポリシリコン/金属酸化物の界面におけるFermiレベルピニング-第2部
Fermi-Level Pinning at the Polysilicon/Metal-Oxide Interface-Part II
HOBBS C C
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
,
FONSECA L R C
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., AZ, USA)
,
KNIZHNIK A
(Kintech Technol. Ltd, Moscow, RUS)
,
DHANDAPANI V
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
,
SAMAVEDAM S B
(NanoCoolers, TX, USA)
,
TAYLOR W J
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
,
GRANT J M
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
,
DIP L G
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
,
TRIYOSO D H
(Advanced Products Res. and Dev. Lab., TX, USA)
資料名：
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻： 51 号： 6 ページ： 978-984 発行年： 2004年06月
JST資料番号： C0222A ISSN： 0018-9383 CODEN： IETDAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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