文献
J-GLOBAL ID:200902236990518586
整理番号:04A0570482
電流検出型原子間力顕微鏡を用いたゲート絶縁膜の局所リーク電流評価
Analysis of Local Leakage Current in Gate Dielectric by Conductive Atomic Force Microscopy
著者 (6件):
世古明義
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
渡辺行彦
(豊田中研)
,
近藤博基
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
酒井朗
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
財満鎮明
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
安田幸夫
(名古屋大 大学院工学研究科)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
104
号:
135(SDM2004 47-59)
ページ:
31-36
発行年:
2004年06月22日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)