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J-GLOBAL ID：200902281779352766 整理番号：07A0724373

Ge基板上へのPr酸化膜の作製と評価

Growth and Characterization of Pr-Oxide-Based Dielectric Films on Ge Substrates

著者 (5件)：

坂下満男

(名古屋大大学院工学研究科)

鬼頭伸幸

(名古屋大大学院工学研究科)

酒井朗

(名古屋大大学院工学研究科)

小川正毅

(名古屋大エコトピア科研)

財満鎭明

(名古屋大大学院工学研究科)

資料名：

電子情報通信学会技術研究報告 (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻： 107 号： 85(SDM2007 31-51) ページ： 107-111 発行年： 2007年05月31日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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