文献
J-GLOBAL ID:201502211440718265
整理番号:15A0949599
超潤滑性用のa-C:H:Si膜の成長機構と動的平滑化挙動
Growth mechanism and dynamic smoothening behavior of a-C:H:Si films for superlubricity
著者 (5件):
CHEN Xinchun
(Univ. Tokyo)
,
KAWAGUCHI Masahiro
(Tokyo Metropolitan Industrial Technol. Res. Inst.)
,
CHOI Junho
(Univ. Tokyo)
,
NOSAKA Masataka
(Univ. Tokyo)
,
KATO Takahisa
(Univ. Tokyo)
資料名:
日本トライボロジー学会トライボロジー会議予稿集(CD-ROM)
巻:
2014
ページ:
ROMBUNNO.2014HARU,B7
発行年:
2014年
JST資料番号:
Y0047C
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)