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文献
J-GLOBAL ID：201702228577761620
整理番号：17A0057832
微分反射顕微鏡で調べたFD-SOIウエハのシリコン厚さの変化【Powered by NICT】
Silicon thickness variation of FD-SOI wafers investigated by differential reflective microscopy
Auerhammer J.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Hartig C.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Wendt K.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
van Oostrum R.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Pfeiffer G.
(GLOBALFOUNDRIES US, Hopewell Junction, NY, 12533, USA)
,
Bayer S.
(HSEB Dresden GmbH, Dresden, Germany)
,
Srocka B.
(HSEB Dresden GmbH, Dresden, Germany)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016 号： S3S ページ： 1-3 発行年： 2016年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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