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文献
J-GLOBAL ID：201702242176808073
整理番号：17A0403127
N_2~+を注入した非晶質Si基板上の界面反応と周期的Niナノドット配列の微細構造進化【Powered by NICT】
Interfacial reactions and microstructural evolution of periodic Ni nanodot arrays on N2 +-implanted amorphous Si substrates
Cheng S.L.
(Department of Chemical and Materials Engineering, National Central University, Chung-Li District, Taoyuan City, Taiwan, ROC)
,
Cheng S.L.
(Institute of Materials Science and Engineering, National Central University, Chung-Li District, Taoyuan City, Taiwan, ROC)
,
Lai R.H.
(Department of Chemical and Materials Engineering, National Central University, Chung-Li District, Taoyuan City, Taiwan, ROC)
,
Huang Y.D.
(Department of Chemical and Materials Engineering, National Central University, Chung-Li District, Taoyuan City, Taiwan, ROC)
,
Lin H.C.
(Department of Chemical and Materials Engineering, National Central University, Chung-Li District, Taoyuan City, Taiwan, ROC)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 399 ページ： 313-321 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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