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文献
J-GLOBAL ID：201702251633910657
整理番号：17A0665836
光触媒活性抑制のためのTiO_2粒子上の室温パルスCVD成長させたSiO_2保護層【Powered by NICT】
Room-temperature pulsed CVD-grown SiO2 protective layer on TiO2 particles for photocatalytic activity suppression
Guo Jing
(Multi-phase Mass Transfer & Reaction Engineering Lab, College of Chemical Engineering, Sichuan University, Chengdu 610065, China. liangbin@scu.edu.cn)
,
Yuan Shaojun
,
Yu Yangyang
,
van Ommen J. Ruud
,
Van Bui Hao
,
Liang Bin
資料名：
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻： 7 号： 8 ページ： 4547-4554 発行年： 2017年
JST資料番号： U7055A ISSN： 2046-2069 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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