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文献
J-GLOBAL ID：201702253514609279
整理番号：17A0664485
化学溶液堆積により調製した酸化セリウム膜のエピタキシャル成長挙動に及ぼす基板表面形態の役割【Powered by NICT】
Role of substrate surface morphology on the epitaxial growth behavior of cerium oxide films prepared by chemical solution deposition
Jin L. H.
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research, Xi’an 710016, China. csli@c-nin.com)
,
Li Y. N.
,
Feng J. Q.
,
Wang Y.
,
Li C. S.
,
Yu Z. M.
,
Lei L.
,
Zhao G. Y.
,
Sulpice A.
,
Zhang P. X.
資料名：
CrystEngComm
(CrystEngComm)
巻： 19 号： 5 ページ： 795-801 発行年： 2017年
JST資料番号： W2462A ISSN： 1466-8033 CODEN： CRECF4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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