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文献
J-GLOBAL ID:201702254460972988   整理番号:17A0575056

ポリスチレン-b-ポリ(炭酸プロピレン)の熱アニーリングによる化学パターン上の誘導自己組織化を用いる次世代リソグラフィー

Directed Self-Assembly of Polystyrene-b-poly(propylene carbonate) on Chemical Patterns via Thermal Annealing for Next Generation Lithography
著者 (12件):
YANG Guan-Wen
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
WU Guang-Peng
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
CHEN Xuanxuan
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
XIONG Shisheng
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
XIONG Shisheng
(Argonne National Lab., Illinois, USA)
ARGES Christopher G.
(Louisiana State Univ., Louisiana, USA)
JI Shengxiang
(Changchun Inst. Applied Chemistry, Chinese Acad. Sci., Changchun, CHN)
NEALEY Paul F.
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
NEALEY Paul F.
(Argonne National Lab., Illinois, USA)
LU Xiao-Bing
(Dalian Univ. Technol., Dalian, CHN)
DARENSBOURG Donald J.
(Texas A&M Univ., Texas, USA)
XU Zhi-Kang
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)

資料名:
Nano Letters  (Nano Letters)

巻: 17  号:ページ: 1233-1239  発行年: 2017年02月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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