文献
J-GLOBAL ID:201702254460972988
整理番号:17A0575056
ポリスチレン-b-ポリ(炭酸プロピレン)の熱アニーリングによる化学パターン上の誘導自己組織化を用いる次世代リソグラフィー
Directed Self-Assembly of Polystyrene-b-poly(propylene carbonate) on Chemical Patterns via Thermal Annealing for Next Generation Lithography
著者 (12件):
YANG Guan-Wen
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
WU Guang-Peng
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
CHEN Xuanxuan
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
,
XIONG Shisheng
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
,
XIONG Shisheng
(Argonne National Lab., Illinois, USA)
,
ARGES Christopher G.
(Louisiana State Univ., Louisiana, USA)
,
JI Shengxiang
(Changchun Inst. Applied Chemistry, Chinese Acad. Sci., Changchun, CHN)
,
NEALEY Paul F.
(Univ. Chicago, Illinois, USA)
,
NEALEY Paul F.
(Argonne National Lab., Illinois, USA)
,
LU Xiao-Bing
(Dalian Univ. Technol., Dalian, CHN)
,
DARENSBOURG Donald J.
(Texas A&M Univ., Texas, USA)
,
XU Zhi-Kang
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名:
Nano Letters
(Nano Letters)
巻:
17
号:
2
ページ:
1233-1239
発行年:
2017年02月
JST資料番号:
W1332A
ISSN:
1530-6984
CODEN:
NALEFD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)