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J-GLOBAL ID：202002274159609431 整理番号：20A2237173

ナノビームX線回折法による高Ge組成SiGe/組成傾斜SiGe/Si積層構造の深さ分解結晶性トモグラフィック評価

Depth-resolved tomographic analysis of high-Ge-content SiGe/compositionally graded SiGe/Si stacked structure using nanobeam X-ray diffraction

著者 (7件)：

志田和己

(大阪大大学院)

藤平哲也

(大阪大大学院)

林侑介

(大阪大大学院)

隅谷和嗣

(JASRI)

今井康彦

(JASRI)

木村滋

(JASRI)

酒井朗

(大阪大大学院)

資料名：

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))

巻： 67th ページ： ROMBUNNO.12p-D519-3 発行年： 2020年02月28日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2436-7613 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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