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J-GLOBAL ID：200902084922363286   整理番号：90A0414958

石英における励起子緩和と欠陥生成

Relaxation of excitons in SiO₂. Its relevance to gap luminescence and defect formation.

著者 (3件)： 伊藤憲昭 (名古屋大 理) ,  谷村克巳 (名古屋大 理) ,  伊東千尋 (名古屋大 理)
資料名： 日本物理学会誌
巻： 45  号： 4  ページ： 263-266  発行年： 1990年04月 
JST資料番号： F0221A  ISSN： 0029-0181  CODEN： NBGSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 結晶とアモルファスでの励起子エキシトンの生成-緩和とその際の...

シソーラス用語： 自縄自縛励起子 ,...

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分類 (2件)： 励起子  (BM02120E) ,  その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

引用文献 (21件)：

• 1) M. Ueta, H. Kanzaki, K. Kobayashi, Y. Toyozawa and E. Hanamura: Excitonic Processes in Solids (Springer-Verlag, Berlin, 1986).
• 2) Y. Toyozawa: Physica B+C 117/118 (1983) 23.
• 3) N.F. Mott and A.M. Stoneham: J. Phys. C 10 (1977) 3391.
• 4) R.A. Street and N.F. Mott: Phys. Rev. Lett. 35 (1975) 1293.
• R.A. Street: Phys. Rev. B17 (1978) 3984.

タイトルに関連する用語 (4件)： 石英 ,  励起子 ,  緩和 ,  欠陥