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J-GLOBAL ID：200902124019025171   整理番号：01A0332853

シリカガラスにおけるイオン注入領域のミクロ評価

Microscopic Characterization of Ion-Implanted Silica Glass.

著者 (9件)： 惣野崇 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  山口喬之 (東京都大) ,  渡辺英紀 (東京都大) ,  西原義孝 (早稲田大) ,  服部雅晴 (早稲田大) ,  大木義路 (早稲田大) ,  及川将一 (原研) ,  荒川和夫 (原研)
資料名： 電気電子絶縁材料システムシンポジウム予稿集  (Proceedings of the Symposium on Electrical and Electronic Insulating Materials and Applications in Systems)
巻： 32nd  ページ： 269-272  発行年： 2000年11月16日 
JST資料番号： G0398B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光ルミネセンス ,...

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分類 (2件)： 光電デバイス一般  (NC03081P) ,  有機化合物のルミネセンス  (BM08094A)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリカガラス ,  イオン注入 ,  評価