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J-GLOBAL ID：200902169641354810   整理番号：02A0466974

TEOS-CVD法によるGeO₂-SiO₂薄膜の紫外光感度に及ぼす不純物の影響

著者 (5件)： 柳崇 (早稲田大 理工) ,  中西哲也 (早稲田大 理工) ,  服部雅晴 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  西川宏之 (芝浦工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 49th  号： 2  ページ： 918  発行年： 2002年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ酸塩ガラス ,...

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分類 (1件)： 無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P)

タイトルに関連する用語 (7件)： TEOS ,  CVD法 ,  GeO2 ,  SiO2 ,  薄膜 ,  光感度 ,  不純物