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J-GLOBAL ID：200902271366122279   整理番号：03A0311262

イオンマイクロビーム照射によるシリカガラスの屈折率変化分布

著者 (9件)： 服部雅晴 (早稲田大 理工) ,  柳崇 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  惣野崇 (芝浦工大) ,  深川一成 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  渡辺英紀 (東京都大 工) ,  及川将一 (原研 高崎研) ,  荒川和夫 (原研 高崎研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 50th  号： 2  ページ： 981  発行年： 2003年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *屈折率 ,...

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分類 (1件)： 光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン ,  マイクロビーム照射 ,  シリカガラス ,  屈折率変化 ,  分布