特許
J-GLOBAL ID：200903027780661683
3次元電界分布測定方法および3次元電界分布測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
福田 賢三
, 福田 伸一
, 福田 武通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-342398
公開番号（公開出願番号）：特開2004-177214
出願日： 2002年11月26日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】微小な領域における立体的な電界分布を短時間で、測定し画像化することができる3次元電界分布測定方法とその装置を提案する。【解決手段】(1)電気光学結晶層と、光の反射層と、電気光学結晶層と同じ材質で作られる離間層とからなる電気光学サンプリング用の複数の電界センサーを用いる測定方法であって、(2)第1の測定においては、電界強度測定を、第1電気光学結晶層と第1の離間層とをもった第1の電界センサーで行ない、(3)第2の測定においては、同じ地点の電界強度測定を第2の電気光学結晶層と第2の離間層の第2の電界センサーを用いて行なうが、第1電気光学結晶層と第2の電気光学結晶層とは同じ材質で作り、電気光学結晶層と離間層との厚さの和が、どれも等しくなるようにして、(4)被測定物から離れる方向の電界分布の測定を行なう。また、このような電界センサーをアレイ状にした装置とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(1)電気光学結晶層と、前記電気光学結晶層に密着した光の反射層と、前記反射層に密着し前記の電気光学結晶層と同じ材質で作られており上記の反射層を被測定物から離間させる離間層とからなる電気光学サンプリング用の複数の電界センサーを用いる測定方法であって、(2)第1の測定においては、予め決められた地点の電界強度測定を、第1電気光学結晶層と第1の離間層とをもった第1の電界センサーを用いて行ない、(3)第2の測定においては、上記と同じ地点の電界強度測定を第2の電気光学結晶層と第2の離間層とをもった第2の電界センサーを用いて行なう際に、第1電気光学結晶層と第2の電気光学結晶層とは同じ材質で作られているという条件と、第1電気光学結晶層と第1の離間層との厚さの和が第2の電気光学結晶層と第2の離間層との厚さの和に等しいという条件と、第1の離間層と第2の離間層との厚みが異なるという条件とを満たす第2の電界センサーを用いて測定し、(4)被測定物から離間する方向における電界分布の測定を行なうことを特徴とする3次元電界分布測定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01R29/08 D
, G01R29/08 F
, G01R31/28 L
2G132AA00
, 2G132AD00
, 2G132AF15
, 2G132AL09
