特許
J-GLOBAL ID：201103064798884931
非接触表面粗さ評価方法および非接触表面粗さ評価装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福田 賢三 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-209653
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004351
特許番号：特許第3243525号
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面粗さ評価の試料である金属の評価面と平行に表面粗さが小さい面を臨ませた電磁波入射側媒質を電磁波透過側媒質を隔てて非接触に配設し、電磁波入射側媒質から入射角θOmでS偏波およびP偏波を含む電磁波を電磁波入射側媒質から照射して電磁波透過側媒質から金属表面へ到達したエバネッセント波または通常の伝搬波が、電磁波透過側媒質に対する相対屈折率nが近似的にn=iαで表される金属の評価面で散乱して電磁波透過側媒質から電磁波入射側媒質へ入射した際に、電磁波の入射角θOmと電磁波透過側媒質に対する電磁波入射側媒質の相対屈折率ngに応じて、電磁波入射側媒質における散乱ブリュースタ角ΘBmが、;;数1::を満たす条件下で、散乱ブリュースタ角ΘBmにおいて取得される散乱波のS偏波成分に対するP偏波成分の比に基づいて、評価面の粗さを評価することを特徴とする非接触表面粗さ評価方法。
IPC (2件)：
G01B 11/30 102
, G01B 21/30 102
G01B 11/30 102 Z
, G01B 21/30 102
