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J-GLOBAL ID：201202152336583847   整理番号：12A1418038

イオンマイクロビーム照射によるシリカガラスの高密度化

著者 (11件)： 服部雅晴 (早稲田大 理工) ,  西原義孝 (早稲田大 理工) ,  藤巻真 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  惣野崇 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  山口喬之 (東京都大 工) ,  渡辺英紀 (東京都大 工) ,  及川将一 (日本原子力研) ,  神谷富裕 (日本原子力研) ,  荒川和夫 (日本原子力研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 48th  号： 2  ページ： 941  発行年： 2001年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン ,  マイクロビーム照射 ,  シリカガラス ,  高密度化