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J-GLOBAL ID：201402244435537462   整理番号：14A0392486

低温MBE法による全単結晶FeRh/CoFe/FeSi/Fe₃Si/Ge(111)構造の作製

著者 (6件)： 平山純也 (九大 大学院) ,  谷川昂平 (九大 大学院) ,  河野慎 (九大 大学院) ,  山田晋也 (九大) ,  宮尾正信 (九大) ,  浜屋宏平 (九大)
資料名： 日本金属学会講演概要(CD-ROM)  (Collected Abstracts of Spring Meeting of the Japan Institute Metals and Materials (CD-ROM))
巻： 154th  ページ： ROMBUNNO.46  発行年： 2014年03月07日 
JST資料番号： S0988B  ISSN： 2433-3093  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *記憶媒体 ,  *熱磁気記録 ,  基板 ,  *ゲルマニウム ,  *MBE成長 ,  低温 ,  *積層構造 ,  鉄 ,  ケイ素 ,  コバルト ,  同時蒸着 ,  化学蒸着 ,  *ロジウム合金 ,  鉄含有合金 ,  *鉄合金 ,  ケイ素含有合金 ,  *コバルト合金 ,  第一種相転移 ,  単結晶 ,  熱アシスト磁気記録 ,  *記録
準シソーラス用語： 一次相転移 ,  磁気記録媒体 ,  反応性蒸着 ,  分子線エピタクシー

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低温 ,  MBE ,  単結晶 ,  Ge ,  作製