文献

J-GLOBAL ID：201402281354076366   整理番号：14A0354368

トポロジカル絶縁体における電気化学的銅インターカレーションと化学ポテンシャル制御

著者 (5件)： 齋藤公佑 (東大 工) ,  酒井英明 (東大 工) ,  十倉好紀 (東大 工) ,  十倉好紀 (理研 CEMS) ,  石渡晋太郎 (東大 工)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 69  号： 1 第4分冊  ページ： 705  発行年： 2014年03月05日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *絶縁材料 ,  *化学ポテンシャル ,  *インターカレーション ,  層間化合物 ,  銅 ,  ドーピング ,  残留抵抗 ,  *絶縁体 ,  *トポロジカル絶縁体 ,  Hall係数
準シソーラス用語： *銅インターカレーション

分類 (1件)： 誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (5件)： トポロジカル絶縁体 ,  電気化学 ,  銅 ,  インターカレーション ,  化学ポテンシャル