特許
J-GLOBAL ID：201403044032936035
有機EL素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-144659
公開番号（公開出願番号）：特開2012-182156
特許番号：特許第5445629号
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2012年09月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 対向する電極間に少なくとも発光層を含む有機層を有する有機EL素子の製造方法において、前記有機層の少なくとも1層を、昇華精製を行ったガラス転移温度が80〜250°Cの二種以上の有機化合物を用いてウェットプロセスで形成する有機EL素子の製造方法であって、該有機化合物の少なくとも一種が下記一般式(1)〜(8)で表される化合物であり、且つ該有機化合物の他の少なくとも一種が下記構造を有するIr(ppy)3またはFIr(pic)であることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
〔式中、Arはそれぞれ独立に、置換基を有しても良い、アリール環またはヘテロアリール環を表す。nは2〜6の整数である。
〔式中、Arは一般式(1)で説明したArと同じである。Dは置換基にArを有する窒素原子又は硫黄原子又は酸素原子である。nは2〜6の整数である。〕
〔式中、Arは一般式(1)で説明したArと同じである。Aは窒素原子又はリン原子又はホウ素原子を表す。nは2又は3の整数である。〕
〔式中、Arは一般式(1)で説明したArと同じである。B1は置換基にArを有する窒素原子又は酸素原子である。B2は炭素原子又は酸素原子である。〕
〔式中、Arは一般式(1)で説明したArと同じである。Aは、一般式(3)で説明したAと同じである。〕
〔式中、Arは一般式(1)と同じである。Aは、一般式(3)で説明したAと同じである。〕
〔式中、Arは一般式(1)と同じである。Aは、一般式(3)で説明したAと同じである。〕
〔式中、Arは一般式(1)と同じである。Aは、一般式(3)で説明したAと同じである。nは1〜3の整数である。〕
IPC (2件)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, H05B 33/14 B
