文献

J-GLOBAL ID：201502217986052975   整理番号：15A0902144

DDSナノデバイス開発に向けた温度応答性膜の作製-電子線グラフト重合法を利用したフッ素系高分子に対する温度応答性高分子の付与に関する研究-

著者 (5件)： 山原有未 (早稲田大) ,  高橋篤史 (早稲田大) ,  大島明博 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  鷲尾方一 (早稲田大) ,  鷲尾方一 (早稲田大 理工学術院 総合研)
資料名： アイソトープ・放射線研究発表会要旨集
巻： 52nd  ページ： 13  発行年： 2015年06月20日 
JST資料番号： S0636B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *固体素子 ,...
準シソーラス用語： *エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体 ,...

ログイン（無料）して見る     続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=15A0902144&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0636B") }}

分類 (3件)： 薬剤学一般  (GY01011J) ,  共重合  (CG04030D) ,  ハロゲン含有重合体  (YH07100Z)

物質索引 (1件)： N-イソプロピルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (10件)： DDS ,  ナノデバイス ,  開発 ,  温度応答 ,  作製 ,  電子線 ,  グラフト重合 ,  フッ素系高分子 ,  温度応答性高分子 ,  研究